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XPS中俄歇峰与AES俄歇谱的差异

X-射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)都是广泛应用于材料元素组成的表面分析技术,分别通过光电子特征峰和俄歇电子特征峰识别元素。然而,XPS全谱中常出现俄歇峰伴峰,为帮助大家更好理解XPS的俄歇峰和AES俄歇谱,本文将对两者的产生机制、谱图特征及核心差异进行详细阐述。

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合作成果I高效且热稳定的反式钙钛矿太阳能电池

TOF-SIMS在研究中作为关键表征手段,通过高表面灵敏和大分子量碎片检测能力,直接验证了SAB中共价键聚合物网络的形成。

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FIB-TOF ‖ 全固态电池截面的原位FIB加工和分析

关键词:聚焦离子束(FIB),TOF-SIMS,快速表征,截面,元素map

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气体团簇离子枪GCIB基本原理

离子溅射源,作为表面分析设备(如XPS、AES和TOF-SIMS)的核心组件,不仅能清洁样品表面,还能进行深度剖析,揭示样品的内在结构。然而,在刻蚀过程中,我们需格外留意,避免对样品造成化学状态改变或

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爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司
ULVAC-PHI是全球领先的超高真空表面分析仪器供应商。专注于研发和生产表面分析仪器,包括光电子能谱仪(XPS)、俄歇电子能谱仪(AES)、飞行时间二次离子质谱仪(Tof-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。通过提供独特的技术解决方案,帮助客户解决各种具有挑战性的问题,从而加速新产品和新技术的发展。产品应用领域包括纳米技术、太阳能技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品以及金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等基础材料。

作为唯一一家能够同时提供高性能XPS、AES和SIMS全系列表面分析仪器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解决方案领域拥有独特的地位。
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