圆满落幕|PHI 2024年全国表面分析技术研讨会

12月19-20日，“PHI 2024年全国表面分析技术研讨会”在上海市成功召开。会议邀请了表面分析领域的技术专家和研究学者，共同为大家带来有关XPS、TOF-SIMS和AES等最前沿技术进展及其在多学科中的应用的学术交流。

此次大会意义非凡，它不仅是PHI中国一年一度的用户盛会，更恰逢我们爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司UPN成立一周年的喜庆日子。此外，我们还在此次会议上揭开了PHI最新力作——HAXPES仪器GENESIS 900的神秘面纱，这款仪器的问世，无疑将为中国的表面分析事业注入新的活力与动能。值得一提的是，过去一年里，我们还在中国成功建立了首个TOF-SIMS demo实验室，为推动中国表面分析技术的发展贡献了一份力量。

12.19 与会人员合影

12.20 与会人员合影

12月19日，我司的应用专家团队针对XPS、TOF-SIMS、AES表面分析技术的应用及其数据处理进行了专题分享。

叶上远 UPN总经理

《表面分析技术介绍及进展》

冯林 UPN应用科学家

《X射线光电子能谱（XPS）培训》

杨欧 UPN应用科学家

《飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）培训》

王玮玮 UPN应用科学家

《俄歇电子能谱（AES）培训》

叶上远先生与UPN南京实验室现场连线，为大家展示设备

12月20日，“PHI 2024年全国表面分析技术研讨会”正式开始，会议主要围绕XPS、HAXPES、AES、TOF-SIMS等表面分析技术进行研讨，并有多位学者进行了主题学术报告和专题报告。

UPN总经理叶上远先生致开幕词

鞠焕鑫  UPN应用科学家

《HAXPES: 由表及里的无损深度分析技术》

薛景中  台湾中央研究院应用科学研究中心  研究员

《Common Issues in XPS Analysis: Identifying and Mitigating Them》

谭细娟  长安大学地球科学与资源学院  副教授

《TOF-SIMS的地学应用及思考》

潘燕芳  清华大学深圳国际研究生院材料与器件检测技术中心  分析应用工程师

《表面分析技术在锂电池的应用》

刘丽婷  西北工业大学分析测试中心  副研究员

《光电子能谱技术测试案例分享》

姜自旺  欧陆埃文思材料科技（上海）有限公司  SIMS部门经理

《二次离子质谱在SiC、GaN及GaAs等材料分析测试中的应用》

保秦烨  华东师范大学物理与电子科学学院  教授

《光电子能谱与能源半导体界面》

叶逸凡  中国科学技术大学国家同步辐射实验室  研究员

《同步辐射硬X射线近常压光电子能谱研究》

张卫民  欧陆埃文思材料科技（上海）有限公司  市场销售经理

《欧陆埃文思薄膜分析技术介绍》

许晶晶  河海大学材料科学与工程学院  教授

《二次电池表界面分析》

任杰  甬江实验室材料分析与检测中心  实验室经理

《显微与表面分析技术及其在材料与器件研发中的应用》

周万海  复旦大学先进材料实验室  副研究员

《新型高比能水系电化学及其器件化》

赵利媛  北京理工大学先进材料实验中心  实验师

《X射线光电子能谱技术在能源材料中的应用》

会议报告结束后，主办方精心筹备了一场晚宴，并设置了激动人心的抽奖环节。

中奖者合影

  会议在欢声笑语中画上了完美的句号。未来，我们诚挚地欢迎各位继续提出宝贵意见和建议，以为大家提供更优质的服务，共同推动中国表面分析行业的蓬勃发展。期待与您在下次盛会中再次相聚！