X-射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）都是广泛应用于材料元素组成的表面分析技术，分别通过光电子特征峰和俄歇电子特征峰识别元素。然而，XPS全谱中常出现俄歇峰伴峰，为帮助大家更好理解XPS的俄歇峰和AES俄歇谱，本文将对两者的产生机制、谱图特征及核心差异进行详细阐述。

TOF-SIMS在研究中作为关键表征手段，通过高表面灵敏和大分子量碎片检测能力，直接验证了SAB中共价键聚合物网络的形成。

关键词：聚焦离子束（FIB），TOF-SIMS，快速表征，截面，元素map

离子溅射源，作为表面分析设备（如XPS、AES和TOF-SIMS）的核心组件，不仅能清洁样品表面，还能进行深度剖析，揭示样品的内在结构。然而，在刻蚀过程中，我们需格外留意，避免对样品造成化学状态改变或

关键词：SIMS，二次离子，Cs+和O2+源，基体效应，离子产额

在二次离子质谱（SIMS）分析中，质量分辨(mass resolution)是一个十分关键的参数，它反映了质谱仪分开质谱峰的能力。质量分辨用M来表示，通常用质量分辨本领（M/M）来描述质谱仪在区分质量