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新型GND托有效抑制AES荷电效应

ULVAC-PHI研发了一种新型GND接地探针样品托,通过微型探针直接接触样品导电区域建立电荷传导通道,能有效抑制俄歇电子能谱(AES)测试中绝缘基底上导电结构的荷电效应。其核心优势在于荷电抑制效果优异、测试条件兼容性强(宽电压和电流范围),并能保证长时间测试的稳定性与数据重复性。

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TOF-SIMS基础概念:质量亏损

质量亏损(mass defection)是指在核反应前后,体系粒子质量发生的变化。基于核素的相对原子质量和不同核素的质量亏损规律,可以帮助我们快速判断谱峰是有机峰还是无机峰,并据此识别构成谱峰的元素类型与分子结构。谱峰识别是TOF-SIMS数据分析中一个非常重要环节,在TOF-SIMS数据解析过程中,我们需要先对原始质谱数据进行正确的质量校准,并运用一系列质谱分析技巧来鉴别谱图中所采集到的二次离子谱峰所对应的化学物种。在本文中,我们将主要介绍质谱分析中关于原子质量的基础概念:质量亏损。

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TOF-DR软件课堂之Profile analysis (三)

TOF-DR软件是PHI TOF-SIMS数据分析的核心利器,本系列文章将持续分享该软件的常用功能及数据处理技巧。

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原位AES-EDS-FIB对埋藏金属颗粒的探测、鉴定和成像

利用原位AES、EDS和FIB技术,成功实现对埋藏颗粒的精准分析。在同一腔室内,依次采用EDS定位埋藏颗粒、FIB暴露颗粒截面、AES精确分析颗粒成分,从而实现对样品表层下方(亚表层)埋藏金属颗粒的检测与表征。

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爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司
ULVAC-PHI是全球领先的超高真空表面分析仪器供应商。专注于研发和生产表面分析仪器,包括光电子能谱仪(XPS)、俄歇电子能谱仪(AES)、飞行时间二次离子质谱仪(Tof-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。通过提供独特的技术解决方案,帮助客户解决各种具有挑战性的问题,从而加速新产品和新技术的发展。产品应用领域包括纳米技术、太阳能技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品以及金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等基础材料。

作为唯一一家能够同时提供高性能XPS、AES和SIMS全系列表面分析仪器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解决方案领域拥有独特的地位。
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