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X射线光电子能谱仪(XPS)
型号:PHI GENESIS 500
俄歇电子能谱仪(AES)
型号:PHI 710
动态二次离子质谱仪(D- SIMS)
型号:PHI ADEPT-1010
飞行时间二次离子质谱仪(TOF- SIMS)
型号:PHI nanoTOF 3+
硬X射线光电子能谱仪(HAXPES)
型号:PHI GENESIS 900
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025-5183 6816
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OF-DR软件是PHI TOF-SIMS数据分析的核心利器,本系列文章将持续分享该软件的常用功能及数据处理技巧。
TOF-DR软件是PHI TOF-SIMS数据分析的核心利器,本系列文章将持续分享该软件的常用功能及数据处理技巧。
俄歇参数可被视为化合物的XPS化学态指纹,不仅可以消除荷电效应和功函数影响,还因X射线激发的俄歇跃迁显示出更大的化学诱导位移,能够更好地区分化合物。
24
2024-05
11月24日,“ULVAC-PHI中国子公司成立仪式暨2023全国表面分析新技术与应用研讨会”在江苏南京成功召开。此次会议上PHI CHINA正式回归ULVAC-PHI总部,并成立爱发科费恩斯(南京)
第三轮通知为积极推动表面分析应用技术的发展,促进表面分析技术与其它学科的融合, 更好地结合表面分析技术解决问题,同时加强同行之间交流与合作,展示相关的新成就、新进展,ULVAC-PHI将携手长安大学于
07
2025-01
12月19-20日,“PHI 2024年全国表面分析技术研讨会”在上海市成功召开。会议邀请了表面分析领域的技术专家和研究学者,共同为大家带来有关XPS、TOF-SIMS和AES等最前沿技术进展及其在多学科中的应用的学术交流。
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联系邮箱:sales_upn@ulvac.com.cn
地址:江苏省南京市江宁区殷富街402号临港同策同心园1-108
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