11月6-7日，“PHI 2025年全国表面分析技术研讨会”在北京成功召开。会议邀请了表面分析领域的技术专家和研究学者，共同为大家带来有关XPS、TOF-SIMS和AES等最前沿技术进展及其在多学科中的应用的学术交流。
▲与会人员合影
11月6日下午，我司的应用专家及售后团队组织了HAXPES专题技术讲座。
▲鞠焕鑫 HAXPES从基础原理到前沿应用
▲李佳欣 HAXPES从实验技术到数据分析
▲辛国强 PHI设备安装
报告结束后，我们组织与会嘉宾前往清华大学实验室进行参观。在专业人员的讲解下，大家实地观摩了先进的科研设备和创新成果，深入交流了技术细节与应用前景。
▲现场参观照片
11月7日
“PHI 2025年全国表面分析技术研讨会”正式开始，会议主要围绕XPS、HAXPES、AES、TOF-SIMS等表面分析技术进行研讨，并有多位学者进行了主题学术报告和专题报告。
▲爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司总经理 叶上远 开场致词
▲ULVAC-PHI,Inc.海外营业专员 久恒明信 <ULVAC-PHI Company and Products Introduction>
▲爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司应用与市场总监 鞠焕鑫 《表面分析技术前沿进展与行业赋能》
▲陕西科技大学教授 樊国栋 《X射线光电子能谱仪分析原理及应用》
▲清华大学正高级工程师 姚文清 《X射线光电子能谱法测量多层薄膜膜厚的分析》
▲河海大学教授 许晶晶 《锂/钠电池宽温域电解液研究》
▲中国科学院大连化学物理研究所博士 王胜红 《冷冻XPS揭秘锂金属电池原生固体电解质界面相的形成和演化》
▲爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司应用工程师 杨欧《二次离子质谱(SIMS)技术解析与创新应用》
▲北京理工大学高级实验师 宋廷鲁 《飞行时间二次离子质谱仪器管理与应用实践》
▲欧陆埃文思材料科技（上海）有限公司SIMS经理 姜自旺 《二次离子质谱在SiC、GaN及GaAs等材料分析测试中的应用》
▲清华大学深圳国际研究生院分析应用工程师 赵琪鲜 《从原理到案例：XPS数据处理与解析指南》
▲北京理工大学实验师 赵利媛 《XPS技术在电池研究中的应用》
▲爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司应用工程师 丁志琴 《多维度电子结构探测：XPS、 UPS、LEIPS与 AES 能谱解析》
▲中国科学院大连化学物理研究所研究员 盛世善 《浅谈表面分析（XPS）谱仪的发展与仪器国产化进程》
▲中国科学院化学研究所研究员 邹业 《低能反光电子能谱与有机半导体能级表征》
▲台湾中央研究院应用科学研究中心教授 薛景中 <Common Issues in XPS Analysis: Identifying and Mitigating Them>
会议在欢声笑语中画上了完美的句号。未来，我们诚挚地欢迎各位继续提出宝贵意见和建议，以为大家提供更优质的服务，共同推动中国表面分析行业的蓬勃发展。期待与您的下一次相聚！
