2025表面分析技术飞行时间二次离子质谱研讨会5月20-21日 ● 吉林大学为促进表面分析技术领域的学术交流，推动二次离子质谱仪（SIMS）技术的创新与应用，展示相关的新成就、新进展，ULVAC-PHI将携手吉林大学于2025年5月20日至

X-射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）都是广泛应用于材料元素组成的表面分析技术，分别通过光电子特征峰和俄歇电子特征峰识别元素。然而，XPS全谱中常出现俄歇峰伴峰，为帮助大家更好理解XPS的俄歇峰和AES俄歇谱，本文将对两者的产生机制、谱图特征及核心差异进行详细阐述。

TOF-SIMS在研究中作为关键表征手段，通过高表面灵敏和大分子量碎片检测能力，直接验证了SAB中共价键聚合物网络的形成。

关键词：聚焦离子束（FIB），TOF-SIMS，快速表征，截面，元素map